Установка ионно-плазменного напыления и нанесения покрытия «Микра»
Установка ионно-плазменного напыления и нанесения покрытия «Микра»
Описание: Установка ионно-плазменного напыления и нанесения покрытия «Микра» предназначена для нанесения методом катодно-ионной бомбардировки износостойких, коррозионно-стойких, защитно-декоративных покрытий (металл, нитриды, оксиды, карбиды и т.д.) на различные изделия из металла и ряда диэлектриков. Установка ионно-плазменного напыления применяется для промышленной обработки партий мелкоразмерных изделий и инструментов, а также для научных и технологических исследований в области физики плазмы и нанесения покрытий, модифицирующих свойства поверхности материалов и разработки этих покрытий. Преимущества: – современные технические решения, – высокая надежность и простота эксплуатации в сравнении с аналогами, – малые габариты и современный дизайн, – низкое энерго- и ресурсопотребление, – экономия расходных материалов, – относительно малое время технологического цикла нанесения покрытия. – имеющийся в установке источник низкотемпературой газовой плазмы (газовый источник), позволяет выполнять дополнительную внутрикамерную очистку изделий, что существенно улучшает качество покрытия. Технические характеристики: Характеристики: Значение: Предельный вакуум 1,33×10-3 Па Время достижения предельного вакуума (не более) 30 мин. Управление работой установки от загрузки до выгрузки стекла программное автоматическое Скорость осаждения нитрида титана 3 – 6 мкм/ч Ток испарителя (плавно регулируемый) 40 – 60 А Ток источника низкотемпературной газовой плазмы 2 – 10 А Напряжение высоковольтного источника 50 – 1000 В Потребляемая мощность, не более 5.5 кВт Установочная площадь 9 м2